3月18日至20日，2026慕尼黑上海光博會在上海新國際博覽中心舉辦。作為亞洲光電產(chǎn)業(yè)重要展會，本屆展會以“光啟新元·勢引未來”為主題，匯聚全球超1200家光電企業(yè)，共話行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展。
玉之泉展臺（受訪者供圖）
杭州玉之泉精密儀器有限公司攜五大系列自研直寫光刻產(chǎn)品亮相，集中展示我國在微納加工領(lǐng)域的國產(chǎn)化技術(shù)突破。
玉之泉展示直寫光刻系統(tǒng)（受訪者供圖）
玉之泉源自浙江大學(xué)玉泉校區(qū)，秉承“求是創(chuàng)新”精神，長期專注直寫光刻系統(tǒng)研發(fā)，致力于推動高端光刻裝備國產(chǎn)化替代。展會現(xiàn)場，玉之泉展臺吸引眾多行業(yè)專家、科研機構(gòu)及企業(yè)代表參觀洽談，交流氛圍熱烈。
玉之泉展臺（受訪者供圖）
本次展出的全系產(chǎn)品覆蓋微納光學(xué)、量子芯片、生物醫(yī)療等多個前沿領(lǐng)域，技術(shù)指標與應(yīng)用場景均實現(xiàn)重要突破。其中，雙光子三維激光直寫光刻系統(tǒng)可實現(xiàn)50nm特征尺寸加工，為微流控芯片等前沿研究提供支撐；AOD紫外激光直寫光刻系統(tǒng)最小線寬達300nm，填補國內(nèi)高端紫外直寫設(shè)備空白；飛秒激光微納加工系統(tǒng)為特種光纖領(lǐng)域提供從科研到量產(chǎn)的全流程解決方案；UVD數(shù)字投影無掩膜光刻系統(tǒng)無需掩膜版，適配MEMS、量子芯片快速原型開發(fā)；VOP生物體打印光刻系統(tǒng)大幅提升加工效率，可實現(xiàn)載細胞材料高精度成型。
玉之泉創(chuàng)始人CEO張舟洋（受訪者供圖）
公司創(chuàng)始人、CEO張舟洋在接受采訪時表示，慕尼黑上海光博會為企業(yè)展示成果、對接產(chǎn)業(yè)提供了重要平臺。玉之泉的技術(shù)布局與國家在量子科技、生物制造等領(lǐng)域的戰(zhàn)略方向高度契合。未來，企業(yè)將持續(xù)推進技術(shù)迭代，擴大產(chǎn)能布局，拓展全球市場，以自主創(chuàng)新助力高端科學(xué)儀器國產(chǎn)化，推動中國直寫光刻技術(shù)與裝備走向國際市場。
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